超聲波發(fā)生器產(chǎn)品特點(diǎn)

Ultrasonic Generators Product Characteristics

單片機(jī)控制，IGBT工作模式，超聲波輸出功率較舊式電路增加15%以上，且連續(xù)無(wú)級(jí)可調(diào)，液晶顯示。

超聲波發(fā)生器裝置工作電壓220 V Ac±10％，超聲波發(fā)生器具有過(guò)壓，過(guò)流，輸出短路等保護(hù)措施。

超聲波發(fā)生器具有功率無(wú)級(jí)調(diào)節(jié)的功能，輸出功率可實(shí)現(xiàn)10～100%的連續(xù)調(diào)整，以適應(yīng)各種清洗對(duì)象的要求。

超聲波發(fā)生器配備有數(shù)字式超聲波工作時(shí)間0～999min 設(shè)定，精確到秒，實(shí)現(xiàn)無(wú)人自動(dòng)值守。

Singlechip-control, IGBT operating mode, the ultrasonic output power is greater than that of the old style circuit by over 15%, and it works in a continuous way without adjustable steps, liquid-crystal display

The ultrasonic generator operating voltage 220 V AC±10％，and ultrasonic generator has various protective measures against the potential dangers of overvoltage, overcurrent and output short-circuit.

The ultrasonic generator has the function of stepless adjustment for its power, and its output power can realize 10～100% continuous adjustment, in order to better suit various objects to be cleaned.

The ultrasonic generator is equipped with digital display of ultrasonic work time 0～999min settings, correct to seconds, and it can control and regulate automatically , needless for care by people.

工業(yè)清洗類的超聲波發(fā)生器的原理是由超聲波發(fā)生器發(fā)出的高頻振蕩信號(hào)，通過(guò)超聲波振子轉(zhuǎn)換成高頻機(jī)械振蕩而傳播到介質(zhì)清洗溶劑中。超聲波發(fā)生器在清洗液中疏密相間的向前輻射，使液體流動(dòng)而產(chǎn)生數(shù)以萬(wàn)計(jì)的微小氣泡，存在于液體中的微小氣泡（空化核）在聲場(chǎng)的作用下振動(dòng)，當(dāng)聲壓達(dá)到一定值時(shí)，氣泡迅速增長(zhǎng)，然后突然閉合，在氣泡閉合時(shí)產(chǎn)生沖擊波，在其周圍產(chǎn)生上千個(gè)大氣壓力，破壞不溶性污物而使它們分散于清洗液中，當(dāng)團(tuán)體粒子被油污裹著而粘附在清洗件表面時(shí)，油被乳化，固體粒子即脫離，從而達(dá)到清洗的目的。
半導(dǎo)體超聲波發(fā)生器的應(yīng)用范圍：
半導(dǎo)體專用單槽式超聲波清洗機(jī)，采用全橋式數(shù)字超聲波發(fā)生器，LED數(shù)顯式時(shí)間溫度控制系統(tǒng)，核心功率件采用進(jìn)口，性能更穩(wěn)定，壽命長(zhǎng)，先進(jìn)自動(dòng)寬頻掃描技術(shù)，選擇不同的波段寬度和掃描頻率，提升換能器工件性能，消除駐波，改善超聲波能量分布，與普通超聲波相比效率更高、性能更穩(wěn)定
KP系列超聲波振板用于擴(kuò)散后的硅片拋光刻蝕、清洗處理，以及搭配雙面電池背面制絨、清洗處理。
Ultrasonic CleanerThis equipment is used for polishing, etching and cleaning treatment of diffused wafers and also compatible for texturing and cleaning treatment of bifacial solar cells.